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镭射雕刻调整方式

时间:2012-07-14 09:36来源:仁捷塑料 作者:plastic 点击:
镭射雕刻调整方式(1) 雕刻速度:雕刻速度指的是镭射头移动的速度,通常用IPS(英 寸/秒)表示,高速度带来高的生产效率。速度也用于控制切割的 深度,对于特定的镭射强度,速度越

镭射雕刻调整方式(1)

  • 雕刻速度:雕刻速度指的是镭射头移动的速度,通常用IPS(英 寸/秒)表示,高速度带来高的生产效率。速度也用于控制切割的 深度,对于特定的镭射强度,速度越慢,切割或雕刻的深度就越 大。

镭射雕刻调整方式(2)

  • 雕刻强度(功率): 雕刻强度指镭射光射到于材料表面镭射的强度。 对于特定的雕刻速度,强度越大, 切割或雕刻的深度就越大。

镭射雕刻调整方式(3)

  • 光斑大小: 镭射光束光斑大小可利用不同焦距的透镜进行调 节。小光斑的透镜用于高解析度的雕刻。大光斑的透镜用于较低分辨率的雕刻。

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标签: 镭射雕刻
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